Method for manufacturing sic epitaxial wafer and sic epitaxial growth apparatus

WO2016098638 Art A1 23. Juni 2016

Anmelder: Showa Denko K.K., Central Research Institute of Electric Power Industry 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016098638
Aktenzeichen: EP15869843
Anmeldetag: 8. Dezember 2015
Veröffentlichung: 23. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/36C23C16/42C23C16/455C30B25/14H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Showa Denko K.K.
Central Research Institute of Electric Power Industry
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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