Novel methods of atomic layer etching (ale) using sequential, self-limiting thermal reactions

WO2016100873 Art A1 23. Juni 2016

Anmelder: The Regents of the University of Colorado, a body corporate 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016100873
Aktenzeichen: EP15871201
Anmeldetag: 18. Dezember 2015
Veröffentlichung: 23. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: The Regents of the University of Colorado, a body corporate
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Regents of the University of Colorado, a Body Corporate

The Regents of the University of Colorado, A Body Corporate ist die Trägerkörperschaft der University of Colorado in den USA. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma und organische Chemie, ergänzt durch Halbleiter- und Werkstofftechnik. Anmeldungen sind von 2001 bis in die Gegenwart belegt.

1.041 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von