Lithographic patterning process and resists to use therein

WO2016102157 Art A1 30. Juni 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016102157
Aktenzeichen: EP15805425
Anmeldetag: 1. Dezember 2015
Veröffentlichung: 30. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/00G03F7/039G03F7/40G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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