Polycrystalline silicon rod, polycrystalline silicon rod processing method, polycrystalline silicon rod crystal evaluation method, and fz monocrystalline silicon production method

WO2016103608 Art A1 30. Juni 2016

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016103608
Aktenzeichen
EP15872183
Anmeldetag
9. Dezember 2015
Veröffentlichung
30. Juni 2016
Rechtsraum
WO
IPC
C01B33/02C01B33/035C30B13/30C30B29/06G01N23/20G01N23/207
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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