Polycrystalline silicon rod, polycrystalline silicon rod processing method, polycrystalline silicon rod crystal evaluation method, and fz monocrystalline silicon production method
WO2016103608
Art A1
30. Juni 2016
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016103608
- Aktenzeichen
- EP15872183
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2015
- Veröffentlichung
- 30. Juni 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/02C01B33/035C30B13/30C30B29/06G01N23/20G01N23/207
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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