Vapor deposition mask and manufacturing method therefor

WO2016104207 Art A1 30. Juni 2016

Anmelder: Hitachi Maxell, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016104207
Aktenzeichen: EP15872776
Anmeldetag: 14. Dezember 2015
Veröffentlichung: 30. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24C23C14/04H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Maxell, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Maxell

Hitachi Maxell war ein japanischer Hersteller von Batterien, Speichermedien und Unterhaltungselektronik innerhalb der Hitachi-Gruppe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Nachrichtentechnik und Telekommunikation sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Optik und Akustik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2000 bis 2016.

626 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von