Polishing solution composition for silicon oxide film polishing
WO2016104611
Art A1
30. Juni 2016
Anmelder: Kao Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016104611
- Aktenzeichen
- EP15873179
- Anmeldetag
- 24. Dezember 2015
- Veröffentlichung
- 30. Juni 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kao Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kao
Japanischer Konsumgüter und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio. Kao entwickelt Produkte und Technologien für Körperpflege, Kosmetik, Haushaltsreiniger sowie chemische Spezialstoffe.
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