System and method for inhibiting radiative emission of a laser-sustained plasma source
WO2016112326
Art A1
14. Juli 2016
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016112326
- Aktenzeichen
- EP16735498
- Anmeldetag
- 8. Januar 2016
- Veröffentlichung
- 14. Juli 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J65/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
495 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.