Verfahren zum Herstellen eines Optischen Elements für ein Optisches System, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

WO2016113117 Art A1 21. Juli 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016113117
Aktenzeichen: EP15823517
Anmeldetag: 30. Dezember 2015
Veröffentlichung: 21. Juli 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/00G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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