Sputtering targets and devices including mo, nb, and ta, and methods

WO2016115026 Art A2 21. Juli 2016

Anmelder: H.C. Starck Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016115026
Aktenzeichen: EP16706027
Anmeldetag: 11. Januar 2016
Veröffentlichung: 21. Juli 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/08C23C14/14C23C14/34C22C27/04G06F3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: H.C. Starck Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇩🇪 H.C. Starck

H.C. Starck ist ein deutsches Unternehmen für Spezialmetalle und Werkstoffe wie Tantal und Wolfram mit Sitz in Goslar. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterwerkstoffe, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2019.

278 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Software & Datenverarbeitung

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