Measurement system optimization for x-ray based metrology
WO2016115385
Art A1
21. Juli 2016
Anmelder: KLA - Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016115385
- Aktenzeichen
- EP16737904
- Anmeldetag
- 14. Januar 2016
- Veröffentlichung
- 21. Juli 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA - Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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