Charged particle beam device, charged particle beam device optical element, and charged particle beam device member production method

WO2016117099 Art A1 28. Juli 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016117099
Aktenzeichen: EP15878792
Anmeldetag: 23. Januar 2015
Veröffentlichung: 28. Juli 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/16H01J9/18H01J37/065H01J37/147

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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