Pattern measurement apparatus and flaw inspection apparatus

WO2016117104 Art A1 28. Juli 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016117104
Aktenzeichen: EP15878797
Anmeldetag: 23. Januar 2015
Veröffentlichung: 28. Juli 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/00H01J37/22H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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