Plasma etching method

WO2016117563 Art A1 28. Juli 2016

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016117563
Aktenzeichen: EP16740170
Anmeldetag: 19. Januar 2016
Veröffentlichung: 28. Juli 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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