Charged particle beam device, and method of manufacturing component for charged particle beam device

WO2016117628 Art A1 28. Juli 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016117628
Aktenzeichen: EP16740235
Anmeldetag: 21. Januar 2016
Veröffentlichung: 28. Juli 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/16H01J37/065H01J37/12H01J37/147H01J37/15

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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