Thin film deposition system capable of physical vapor deposition and chemical vapor deposition simultaneously
WO2016118598
Art A1
28. Juli 2016
Anmelder: The Regents of the University of California 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016118598
- Aktenzeichen
- EP16740654
- Anmeldetag
- 20. Januar 2016
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- The Regents of the University of California
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
University of California
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