Vacuum processing device

WO2016121075 Art A1 4. August 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016121075
Aktenzeichen: EP15879972
Anmeldetag: 30. Januar 2015
Veröffentlichung: 4. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B01J3/02C23C16/455C23F4/00F15B11/06F16K51/02H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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