Ion milling mask position adjustment method, electron microscope capable of adjusting mask position, mask adjustment device carried by sample stage, and sample mask part for ion milling device

WO2016121080 Art A1 4. August 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016121080
Aktenzeichen: EP15879977
Anmeldetag: 30. Januar 2015
Veröffentlichung: 4. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/305H01J37/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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