Mn-zn-w-o sputtering target and manufacturing method therefor

WO2016121367 Art A1 4. August 2016

Anmelder: Dexerials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016121367
Aktenzeichen: EP16742971
Anmeldetag: 25. Januar 2016
Veröffentlichung: 4. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/00C04B35/453G11B7/243

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dexerials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Dexerials

Japanischer Hersteller elektronischer Komponenten und optischer Materialien mit Sitz in Tokio, 2012 als Ausgründung aus Sony Chemical hervorgegangen.

964 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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