Charged particle beam apparatus for artificially creating analysis image from secondary-particle image

WO2016121471 Art A1 4. August 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016121471
Aktenzeichen: EP16743075
Anmeldetag: 12. Januar 2016
Veröffentlichung: 4. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22G01N23/14G01N23/225H01J37/244H01J37/252H01J37/28H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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