Impurity diffusion composition, method for manufacturing semiconductor element using same, and solar cell

WO2016121641 Art A1 4. August 2016

Anmelder: Toray Industries, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016121641
Aktenzeichen: EP16743244
Anmeldetag: 22. Januar 2016
Veröffentlichung: 4. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/225B05D7/00B05D7/24H01L31/068H01L31/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toray Industries, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toray Industries

Japanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Tokio. Toray entwickelt Kohlefasern, synthetische Fasern, Kunststoffe, Chemikalien sowie Materialien für Textil-, Automobil-, Elektronik- und Luftfahrtindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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