Polishing device, coating film formation device, coating film formation method, recording medium, pattern formation method, and pattern formation device

WO2016125408 Art A1 11. August 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016125408
Aktenzeichen: EP15881225
Anmeldetag: 22. Dezember 2015
Veröffentlichung: 11. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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