Measurement device and measurement method, exposure device and exposure method, and device manufacturing method

WO2016125790 Art A1 11. August 2016

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016125790
Aktenzeichen: EP16746621
Anmeldetag: 2. Februar 2016
Veröffentlichung: 11. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01B11/00G01D5/347G01D5/38G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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