Method and apparatus for reticle optimization

WO2016128190 Art A1 18. August 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016128190
Aktenzeichen: EP16701034
Anmeldetag: 20. Januar 2016
Veröffentlichung: 18. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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