Beleuchtungsoptik für die Euv-Projektionslithografie

WO2016128253 Art A1 18. August 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016128253
Aktenzeichen
EP16702708
Anmeldetag
2. Februar 2016
Veröffentlichung
18. August 2016
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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