Photosensitive resin composition and resin composition, patterned resin film and method for manufacturing same, and cell culture device

WO2016129195 Art A1 18. August 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016129195
Aktenzeichen: EP15882068
Anmeldetag: 28. Dezember 2015
Veröffentlichung: 18. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C12M3/00C08G65/14G03F7/027G03F7/031G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Pharma & Biotechnologie

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