Cr-ti alloy sputtering target material and method for producing same

WO2016129449 Art A1 18. August 2016

Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016129449
Aktenzeichen: EP16749093
Anmeldetag: 2. Februar 2016
Veröffentlichung: 18. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/15C22C14/00C22C27/06G11B5/738G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Metals, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

1.209 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von