Thin-film substrate, semiconductor device and manufacturing method therefor, deposition apparatus, deposition method and gan template

WO2016132746 Art A1 25. August 2016

Anmelder: National University Corporation Nagoya University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016132746
Aktenzeichen: EP16752135
Anmeldetag: 19. Februar 2016
Veröffentlichung: 25. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/20H01L21/203H01L21/338H01L29/778H01L29/812H01L33/12H01L33/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National University Corporation Nagoya University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National University Corporation Nagoya University

Japanische staatliche Universität mit umfangreicher Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin, unter anderem bekannt für Arbeiten zu LED-Technologie. Trägerin zahlreicher Patente aus Universitätsforschung in Japan.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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