Method for producing insulating film, insulating film, resin composition for laser abrasion, and electronic component

WO2016132784 Art A1 25. August 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016132784
Aktenzeichen: EP16752173
Anmeldetag: 14. Januar 2016
Veröffentlichung: 25. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/36G03F7/039H01L21/312H05K1/03H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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