Self-organized-film forming method, pattern forming method, and self-organized-film forming composition

WO2016133115 Art A1 25. August 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016133115
Aktenzeichen: EP16752501
Anmeldetag: 17. Februar 2016
Veröffentlichung: 25. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B05D7/24C09D201/00H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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