Device for manufacturing thin film, and method for manufacturing thin film

WO2016133131 Art A1 25. August 2016

Anmelder: Nikon Corporation, National University Corporation Kumamoto University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016133131
Aktenzeichen: EP16752517
Anmeldetag: 17. Februar 2016
Veröffentlichung: 25. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/448C23C16/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nikon Corporation
National University Corporation Kumamoto University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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