Device for manufacturing thin film, and method for manufacturing thin film

WO2016133131 Art A1 25. August 2016

Anmelder: Nikon Corporation, National University Corporation Kumamoto University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016133131
Aktenzeichen: EP16752517
Anmeldetag: 17. Februar 2016
Veröffentlichung: 25. August 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/448C23C16/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nikon Corporation
National University Corporation Kumamoto University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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🇯🇵 National University Corporation Kumamoto University

Die National University Corporation Kumamoto University ist eine japanische staatliche Universität. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Pharma, ergänzt um Metallurgie, organische Chemie und Messtechnik. Die Anmeldungen decken ein breites Spektrum von Halbleiterbauelementen bis zu Pflanzenschutzmitteln ab.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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