Screening For Data Retention Loss in Ferroelectric Memories

WO2016133866 Art A1 25. August 2016

Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016133866
Aktenzeichen
EP16752879
Anmeldetag
16. Februar 2016
Veröffentlichung
25. August 2016
Rechtsraum
WO
IPC
G11C29/50G11C11/22
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Texas Instruments Incorporated
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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