Microwave plasma vapor-phase reaction device

WO2016135899 Art A1 1. September 2016

Anmelder: Osaka University, Nissin Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016135899
Aktenzeichen: EP15883195
Anmeldetag: 25. Februar 2015
Veröffentlichung: 1. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46B01J19/12C23C16/511

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Osaka University
Nissin Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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