Oxide sintered body, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained therefrom

WO2016136479 Art A1 1. September 2016

Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016136479
Aktenzeichen
EP16755226
Anmeldetag
10. Februar 2016
Veröffentlichung
1. September 2016
Rechtsraum
WO
IPC
C04B35/00C23C14/08C23C14/34
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

840 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen