Fluorine-containing composition, substrate for patterning, photo-degradable coupling agent, method for patterning, and manufacturing method for transistor

WO2016136817 Art A1 1. September 2016

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016136817
Aktenzeichen: EP16755561
Anmeldetag: 24. Februar 2016
Veröffentlichung: 1. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075B05D1/32B05D3/10G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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