Method for enhancing performance of plasma-wave transistor
WO2016137030
Art A1
1. September 2016
Anmelder: Korea Advanced Institute of Science and Technology, UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology) 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016137030
- Aktenzeichen
- EP15883419
- Anmeldetag
- 25. Februar 2015
- Veröffentlichung
- 1. September 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Korea Advanced Institute of Science and Technology
UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology) - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
KAIST
Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.
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