Methods for selective dielectric deposition using self-assembled monolayers

WO2016138284 Art A1 1. September 2016

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016138284
Aktenzeichen: EP16756374
Anmeldetag: 25. Februar 2016
Veröffentlichung: 1. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/448

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von