Coating processing method, computer storage medium, and coating processing device

WO2016140012 Art A1 9. September 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016140012
Aktenzeichen: EP16758707
Anmeldetag: 4. Februar 2016
Veröffentlichung: 9. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B05D1/40B05C11/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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