Substrate-processing method, computer storage medium, and substrate-processing system

WO2016140031 Art A1 9. September 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016140031
Aktenzeichen: EP16758726
Anmeldetag: 10. Februar 2016
Veröffentlichung: 9. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B82Y40/00C08F297/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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