Radiation-sensitive composition and pattern formation method

WO2016140057 Art A1 9. September 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016140057
Aktenzeichen: EP16758751
Anmeldetag: 16. Februar 2016
Veröffentlichung: 9. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F212/08C08F220/10G03F7/038G03F7/039G03F7/32C07F7/00C07F7/22C07F7/28C07F9/00C07F11/00C07F17/00C07F19/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von