Method for cleaning, method for manufacturing semiconductor device, device for treating substrate, and recording medium
WO2016140166
Art A1
9. September 2016
Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc., Central Glass Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016140166
- Aktenzeichen
- EP16758860
- Anmeldetag
- 26. Februar 2016
- Veröffentlichung
- 9. September 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/316C23C16/44H01L21/3065H01L21/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi Kokusai Electric Inc.
Central Glass Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
21.158 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
1.099 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.