Method for manufacturing cvd-sic material

WO2016141579 Art A1 15. September 2016

Anmelder: Ibiden Co., Ltd., Wuhan University Of Technology, Goto, Takashi 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016141579
Aktenzeichen: EP15884262
Anmeldetag: 12. März 2015
Veröffentlichung: 15. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/32C23C16/455C30B28/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Ibiden Co., Ltd.
Wuhan University Of Technology
Goto, Takashi
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Ibiden

Ibiden ist ein japanischer Hersteller elektronischer Materialien mit Sitz in Ogaki, spezialisiert auf IC-Substrate für Halbleiter sowie Keramikprodukte für die Automobil- und Elektronikindustrie.

1.571 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von