Method for etching magnetic layer

WO2016143594 Art A1 15. September 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016143594
Aktenzeichen: EP16761564
Anmeldetag: 1. März 2016
Veröffentlichung: 15. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/8246H01L27/105H01L43/08H01L43/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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