Sputtering device
WO2016143747
Art A1
15. September 2016
Anmelder: TOPCON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016143747
- Aktenzeichen
- EP16761715
- Anmeldetag
- 7. März 2016
- Veröffentlichung
- 15. September 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/50C23C14/34H01L21/677
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOPCON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Topcon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Topcon entwickelt Präzisionsmessgeräte, GPS- und Vermessungstechnik sowie optische Instrumente für Bauwesen, Landwirtschaft und Augenheilkunde.
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