Mask blank, transfer mask, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2016147518 Art A1 22. September 2016

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016147518
Aktenzeichen: EP15885610
Anmeldetag: 24. Dezember 2015
Veröffentlichung: 22. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32C23C14/06G03F1/54G03F1/80H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von