Substrate treatment device and substrate treatment method

WO2016151968 Art A1 29. September 2016

Anmelder: Sumitomo Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016151968
Aktenzeichen: EP15886520
Anmeldetag: 22. Dezember 2015
Veröffentlichung: 29. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/458C23C16/46H01L21/31H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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