Mask blanks, phase shift mask, method for manufacturing phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2016152212 Art A1 29. September 2016

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016152212
Aktenzeichen: EP16768115
Anmeldetag: 19. Januar 2016
Veröffentlichung: 29. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32C23C14/06G03F1/54G03F1/74H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von