Oxide sintered body, and sputtering target comprising the oxide sintered body
WO2016152349
Art A1
29. September 2016
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016152349
- Aktenzeichen
- EP16768252
- Anmeldetag
- 19. Februar 2016
- Veröffentlichung
- 29. September 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B35/00C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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