Resist liquid storage container, resist liquid supply device, resist liquid application device, resist liquid preservation device, and mask blank manufacturing method

WO2016152472 Art A1 29. September 2016

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016152472
Aktenzeichen: EP16768375
Anmeldetag: 7. März 2016
Veröffentlichung: 29. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C11/10G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von