Electron beam-type pattern inspecting device

WO2016152582 Art A1 29. September 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016152582
Aktenzeichen: EP16768485
Anmeldetag: 11. März 2016
Veröffentlichung: 29. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/225G01N23/203G01N23/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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