Photosensitive resin composition, photosensitive element, mask material for sand blasting, and method for treating surface of object to be treated

WO2016152852 Art A1 29. September 2016

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016152852
Aktenzeichen: EP16768755
Anmeldetag: 22. März 2016
Veröffentlichung: 29. September 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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